製品案内

CVD材料

CVD材料とは、蒸気圧を有する原材料をガス化させ、様々な条件下における気相中の化学反応を利用し、希望する物質を成膜するための材料です。
当社ではお客様のご要望により様々な製品を提供しております。


製品紹介

CVT製品紹介
当社は半導体デバイス用に現在最も大量に用いられているCVD材料であるTEOSのパイオニアです。
TEOSとともに用いられえることが多いTEOP、TEB等をはじめ、様々な種類のCVD材料を生産しております。

 

絶縁層形成材料

  分子量 融点 蒸気圧 比重 備考
Si(OC2H5)4
TEOS

PDF 物性表


CAS 78-10-4
208.33 -82.5℃ log10P=4.9936-856.8/
(t+118.13) (P:kPa,t:℃)
0.9213(20/4) 水とゆるやかに反応して加水分解する。
P(OCH3)3
TMP
CAS 121-45-9
124.08 -78℃ log10P=10.178-2024.1/
(t+273.15) (P:Pa,t:℃)
1.0518(20) 水と激しく反応して分解する。
PO(OCH3)3
TMOP
CAS 512-56-1
140.07 α型-46.1℃
β型-62.5℃
log10P=10.17-2416/
(t+273.15) (P:Pa,t:℃)
1.214(20/4) 水とは非常におだやかにしか反応しない。
PO(OC2H5)3
TEOP
CAS 78-40-0
182.15 -56.4℃ log10P=10.3308-2577/
(t+273.15) (P:Pa,t:℃)
1.0695(20) 水とは非常におだやかにしか反応しない。
B(OCH3)3
TMB
CAS 121-43-7
103.91 -29.3℃ log10P=10.232-1785.3/
(t+273.15) (P:Pa,t:℃)
0.9205(24.3) 大気中の水分とすみやかに加水分解反応する。
B(OCT2H5)3
TEB
CAS 150-46-9
145.99 -84.8℃ log10P=10.2666-2061/
(t+273.15) (P:Pa,t:℃)
0.8635(20/4) 大気中の水分とすみやかに加水分解反応する。

※各製品の(M)SDSは元素別カタログをご参照ください。


ALD用金属アミド・イミド化合物

* は当社のオリジナル商品です。)
  分子量 融点 蒸気圧 比重 備考

Hf[N(CH3)2]4
TDMAH

PDF 物性表


CAS 19782-68-4
354.79 28℃ log10P=12.115-3377/
(t+273.15) (P:Pa,t:℃)
1.48(50) 水と激しく反応して分解する。大気中の酸素と反応して分解する。

Hf[N(C2H5)2]4
TDEAH

PDF 物性表


CAS 19824-55-6
467.01 -70℃ 約90℃/13.3Pa 1.25(20) 水と激しく反応して分解する。大気中の酸素と反応して分解する。

Zr[N(C2H5)CH3]4
TEMAZ

PDF 物性表


CAS 175923-04-3
323.63 <-70℃ 約65℃/13.3Pa 1.05(20) 水と激しく反応して分解する。大気中の酸素と反応して分解する。

SiH[N(CH3)2]3
3DMAS

PDF 物性表


CAS 15112-89-7
161.32 -90℃ log10P=10.177-2147/
(t+273.15) (P:Pa,t:℃)
0.580(20) 水と反応して分解する。大気中の酸素と反応して分解する。

Ta(NtC5H11)
[N(CH3)2]3
*Taimata

PDF 物性表


CAS 440081-38-9
398.32 36℃ log10P=10.795-3233/
(t+273.15) (P:Pa,t:℃)
1.43 水と反応して分解する。大気中の酸素と反応して分解する。

Ta(NtC4H9)
[N(C2H5)CH3]3
TBTEMT

PDF 物性表


CAS 511292-99-2
426.37 室温で液体 log10P=10.54-3233/
(t+273.15) (P:Pa,t:℃)
1.32 水と反応して分解する。大気中の酸素と反応して分解する。

※各製品の(M)SDSは元素別カタログをご参照ください。


高・強誘電体、電極形成用材料

* は当社のオリジナル商品です。)
  分子量 融点 蒸気圧 比重 備考

Ta(OC2H5)5
PET

PDF 物性表


CAS 6074-84-6
406.25 21℃ log10P=12.645-4505/
(t+273.15) (P:Pa,t:℃)
1.56 大気中の水分と反応し、加水分解する。

Hf(OtC4H9)4
HTB

PDF 物性表


CAS 2172-02-3
407.94 8℃ log10P=11.265-3052/
(t+273.15) (P:Pa,t:℃)
1.17 大気中の水分と反応し、加水分解する。

Al(OsecC4H9)3

PDF 物性表


CAS 2269-22-9
246.32 -60℃ log10P=13.325-4698/
(t+273.15) (P:Pa,t:℃)
0.937 大気中の水分と反応し、加水分解する。

Ru(C5H4C2H5)2

PDF 物性表


CAS 32992-96-4
287.36 6℃ log10P=11.875-3708/
(t+273.15) (P:Pa,t:℃)
1.56 大気中で比較的安定。

Pb(C11H19O2)2

PDF 物性表


CAS 21319-43-7
573.73 130℃ 昇華 log10P=20.545-7800/(t+273.15) (P:Pa,t:℃)
蒸発 log10P=12.065-4480/(t+273.15) (P:Pa,t:℃)
1.52 大気中で比較的安定。

* Zr(OiC3H7)(C11H19O2)3

PDF 物性表


CAS 343311-16-0
700.11 >210℃ log10P=19.735-7924/
(t+273.15) (P:Pa,t:℃)
1.0 大気中の酸素、水分と反応して分解する。

Ti(OiC3H7)2(C11H19O2)2

PDF 物性表


CAS 144665-26-9
532.58 160℃ log10P=14.855-5435/
(t+273.15) (P:Pa,t:℃)
1.0 大気中の酸素、水分と反応して分解する。

※各製品の(M)SDSは元素別カタログをご参照ください。

上記商品は一例です。詳しくはこちらからお問い合せ下さい。


生産体制

生産体制
CVD材料は物性や純度の高さから生産には高い技術レベルが要求されます。
当社は、これらの製品の精製技術、分析技術シリンダーの洗浄・メンテナンス及び設計技術についてユーザーの皆様から高い評価を受けています。



 

研究開発体制

研究開発体制
当社は、次世代の半導体用CVD材料においても様々なユーザーニーズに対応して研究開発を進めています。
試薬メーカーとして培われた、ハロゲン化物やアルコキシド等の金属有機化合物の合成技術と、シリコン半導体材料の量産で培った技術をもとに開発された製品は、業界でもトップレベルの品質です。


 

製品の供給形態

アルコキシド、ハロゲン化物、有機金属は大気中の水・酸素と反応性の高いものが多いため、ガラス製アンプル、ステンレス製シリンダーなどに密閉された状態で供給いたします。

1. ガラス製アンプル

ガラス製アンプル
ガラス製アンプルは、アルコキシド、ハロゲン化物の供給容器としても最も良く利用されるものです。
25g入りが標準充填量です。



2. ステンレスシリンダー

(a) ステンレスシリンダーは、有機金属のような大気中で発火する物質を安全に運搬する目的の他に、CVD装置に装着してただちにバブラーとして利用する目的のためにご使用いただけます。 ステンレスシリンダー
(b) CVD装置に直接装着可能なバブラー容器として、アルコキシド等のCVD材料を充填し供給することが出来ます。ご使用量や装着される装置の寸法に合わせた容器を製作しています。