インフォメーション

2014年度以前


2014年12月 年末年始休業期間についてのお知らせ
2014年12月 MRAM向けスパッタリングターゲットのご紹介
2014年8月 夏季休業期間についてのお知らせ
2014年3月 強誘電体・圧電体材料のご紹介
2014年3月 消費税率改定に伴う消費税変更のお知らせ
2014年1月 サイトリニューアルのお知らせ
2013年9月 3Dプリンター用材料「Sanpri(サンプリ)」サンプル供給開始
2013年7月 名古屋営業所開設のお知らせ
2013年4月 経営理念・行動指針
2013年4月 カスタマーズガイド新刊発行のお知らせ
2014年12月 年末年始休業期間についてのお知らせ
2014年12月 MRAM向けスパッタリングターゲットのご紹介
2014年8月 夏季休業期間についてのお知らせ
2012年12月 高純度ブルッカイト型酸化チタン粉末
2012年11月 高純度化学研究所イメージキャラクター「バケるくん」
2012年9月 元素標本試料提供
2012年9月 社内の活動
2012年7月 低酸素・高純度Co-Fe-Bスパッタリングターゲット
2012年3月 RoHS指令規制物質分析について
2012年3月 紛争鉱物対応方針
2012年2月 熱膨張が極めて小さな樹脂複合材料ペレットの量産化に成功
2012年2月 熱膨張抑制剤に関するプレス発表
2012年1月 熱膨張抑制剤<商品名 Smartec®>
2011年7月 東北地方太平洋沖地震による影響について(第2報)
2011年4月 ISO9001:2008,ISO14001:2004登録認証書の更新について
2011年4月 販売再開のお知らせ
2011年4月 2012年度新卒採用について
2010年9月 硫化物・窒化物材料
2010年7月 ランタゲン® ランタン イソプロポキシド オキシド
2010年1月 新工場竣工のお知らせ
2009年12月 化合物薄膜太陽電池用ターゲット
2009年5月 溶融品Co系ホイスラー合金ターゲットの大型化に成功
2009年3月 ブルカイト型Ti02
2008年9月 EtCp(シクロペンタジエニル)錯体
2008年6月 新工場建設に関するお知らせ
2008年6月 DCスパッタ用酸化ニオブ(NbOx)ターゲット
2008年5月 高密度・高純度α型マンガン(Mn)ターゲット
2008年2月 高密度PVD材料
2007年11月 硫化物蛍光体材料
2007年6月 Sr[C5(CH3)5]2
2006年12月 Lanthagen-tmsa-Gd
2006年9月 代表取締役社長就任のご挨拶
2006年9月 代表取締役社長退任のご挨拶
2006年4月 即納対応品のご案内
2005年4月 東松山工場 MOCVD材料棟の操業開始
2005年1月 MgO 4N ターゲット
2004年10月 バリウムチオアルミネート
2004年7月 トリス(sec-ブトキシ)アルミニウム
2004年3月 TaN膜用新規材料 Taimata タイマータ
2004年3月 硫化物及び複合硫化物類
2004年1月 バッキングプレート
2003年9月 LiTaO3薄膜用新規MOCVD材料
2003年7月 高純度FeSi2スパッタリングターゲット
2003年6月 窒化ハフニウムターゲット
2003年5月 PZT低温成膜用Ti化合物
2003年3月 不斉合成用希土類化合物 ランタゲン
2003年2月 DVD反射膜用Ag合金ターゲット
2002年11月 溶融製低酸素Ir-Mnターゲット
2002年10月 イオン打ち込み用ソリッドソース
2002年7月 高純度化学のMRAM用材料
2002年7月 パーティクルフリー WO3 タブレット
2002年5月 高純度化学研究所のゲート絶縁膜用ALD材料
2002年5月 高純度コバルト化合物
2002年3月 Co系ホイスラー合金ターゲット
2002年1月 各種コート材料
2001年12月 高純度Co及びCo合金系ターゲット
2000年12月 粉末無電解メッキ加工
2000年11月 高密度SrRuOxスパッタリングターゲット
2000年6月 EtCp(シクロペンタジエニル)錯体