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主な評価設備

ICP-MS(誘導結合プラズマ質量分析装置)

ICP-MS(誘導結合プラズマ質量分析装置)ICP-MS(誘導結合プラズマ質量分析装置)は高温アルゴンプラズマ中に試料を噴霧し、イオン化された元素を質量分析する高感度無機元素分析装置です。その測定濃度範囲はppbからppt濃度領域に及びます。当装置はマトリックスに強い多原子イオン干渉の除去を目的としたオクタポールリアクションセルシステムを搭載した装置です。



ICP-OES(誘導結合プラズマ発光分光分析装置)

ICP-AES(誘導結合プラズマ発光分光分析装置)ICP-OES(誘導結合プラズマ発光分光分析装置)は励起源はICP-MSと同じですが、励起された光を分光器により分光し、そのスペクトルを測定する装置です。光の波長は元素特有であり、また光の強度はその元素の量に比例することから高感度な定性・定量が出来る装置です。ダイナミックレンジが4〜5桁におよび多元素同時に定量出来るという特徴を持っています。



原子吸光光度計

原子吸光光度計原子吸光光度計は原子状の蒸気が金属固有の波長の光を吸収する特徴を用いてその吸収量を測定する無機元素測定装置です。
当装置はバックグラウンドの補正に原子化部に磁場をかけるゼーマン補正を利用しています。またフレーム分析とグラファイト炉分析を切り替えて一台で行えるタンデム原子吸光光度計です。



酸素窒素分析装置

酸素窒素分析装置He気流中でサンプルを黒鉛るつぼに入れ大電流を流すと電気抵抗により急速に加熱され、サンプルは熱分解され酸素はCOとして、窒素はN2としてキャリアガスによって運ばれます。これを酸素は赤外線検出器で、窒素は熱伝導度検出器で測定しそれぞれの濃度に換算して定量します。



電位差滴定装置

電位差滴定装置電位差滴定は容量分析法の一種であり、電極電位の変化と滴定量とで滴定曲線を作成し滴定の終点を求める方法です。これをオートビュレットを用い自動的に行うのがこの装置です。当社では銀電極を用い塩素量の定量分析を行っています。



電界放射型走査電子顕微鏡(FE-SEM)

電界放射型走査電子顕微鏡(FE-SEM)SEMは電子線を試料に照射した際に発生する二次電子線を検出して表面状態を観察する装置です。当装置は電界放射型(FE)で電子線を細く絞っても充分な輝度が得られるため、汎用型(タングステンフィラメント使用)に比べ高分解能観察が可能です。また付属のエネルギー分散型のX線分析装置により試料表面の微小領域における元素分析(マッピング)が可能です。



レーザー回折/散乱式粒度分布測定装置

レーザー回折/散乱式粒度分布測定装置粒子にレーザー光を照射したときに空間的に回折/散乱現象が起こり、光強度分布パターンが生じます。これは照射された粒子の大きさに依存しています。粒度分布とは測定全粒子の複合パターンからFraunhofer回折理論及びMie散乱理論を用いた理論的な計算により粒径の分布を求めるものです。この方式は測定時間が短く、再現性に優れていて操作が簡単であるなどの特徴を持っています。



X線回折装置(XRD)

X線回折装置(XRD)X線の回折現象を利用し、粉末状の結晶もしくは多結晶体の情報を得る装置です。サンプルからの回折されたX線の角度と強度を測定することにより、サンプルの定性・定量分析を始めとする材料評価・解析等を行うことが出来ます。